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UV光源UV光清洗燈技術原理
時間: 2021-03-16 09:28
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UV清潔燈的技術是利用有機化合物的光敏氧化，使 uvled固化 去除附著在材料表面的有機物。 用UV清潔燈技術清潔后的材料表面可以達到“原子清潔度”指標。 詳細的解釋是，發出波長為185nm和254nm的光波的UV光源具有相對較高的能量。 當這些光子作用于要清潔的對象的表面時，大多數 碳氫化合物 具有強UV，波長為185nm。 具有吸收能力，在吸收了185nm波長的UV能量后，被分解為離子
UV清潔燈的技術是利用有機化合物的光敏氧化，使uvled固化去除附著在材料表面的有機物。
用UV清潔燈技術清潔后的材料表面可以達到“原子清潔度”指標。 詳細的解釋是，發出波長為185nm和254nm的光波的UV光源具有相對較高的能量。 當這些光子作用于要清潔的對象的表面時，大多數碳氫化合物具有強UV，波長為185nm。 具有吸收能力，在吸收了185nm波長的UV能量后，被分解為離子游離態原子，激發分子和中子，這就是所謂的光敏性。
空氣中的氧氣分子在吸收波長為185nm的UV后也會產生臭氧和原子氧。 臭氧對波長為254nm的UV也有很強的吸收作用，臭氧會分解成原子氧和氧氣。 其中，原子氧非常活躍。 在其作用下，物體表面的碳和碳氫化合物的分解產物可以轉化為揮發性氣體：二氧化碳和水蒸氣逸出表面，從而完全消除了對物體的粘附碳和有機污染物 表面。
目前，國外廣泛使用的清潔方法是UVUV清潔。UV膠固化一方面可以避免由于使用有機溶劑而造成的污染，同時可以縮短清潔過程。 用普通石英產生的低壓汞的清潔效果遠不如用合成石英制成的低壓汞燈的清潔效果。
用UV清潔燈技術清潔后的材料表面可以達到“原子清潔度”指標。 詳細的解釋是，發出波長為185nm和254nm的光波的UV光源具有相對較高的能量。 當這些光子作用于要清潔的對象的表面時，大多數碳氫化合物具有強UV，波長為185nm。 具有吸收能力，在吸收了185nm波長的UV能量后，被分解為離子游離態原子，激發分子和中子，這就是所謂的光敏性。
空氣中的氧氣分子在吸收波長為185nm的UV后也會產生臭氧和原子氧。 臭氧對波長為254nm的UV也有很強的吸收作用，臭氧會分解成原子氧和氧氣。 其中，原子氧非常活躍。 在其作用下，物體表面的碳和碳氫化合物的分解產物可以轉化為揮發性氣體：二氧化碳和水蒸氣逸出表面，從而完全消除了對物體的粘附碳和有機污染物 表面。
目前，國外廣泛使用的清潔方法是UVUV清潔。UV膠固化一方面可以避免由于使用有機溶劑而造成的污染，同時可以縮短清潔過程。 用普通石英產生的低壓汞的清潔效果遠不如用合成石英制成的低壓汞燈的清潔效果。
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